含氰廢水處理技術

1.堿性氯化

適用于處理含無機氰化物或氰合金屬基配合物(鐵氰配合物除外)的含氰廢水。常用含氯氧化劑為次氯酸鈉、漂白粉、二氧化氯。工藝控制條件為: 第一階段 H 值為 10~11、化還原電位為 300 mV~350mV，第二階段 H值為8~9、化還原電位為 600mV700mV: 反應時間取決于待處理廢水中總氰化物含量(一般為1h~1.5h) ;有效氯(以 C計)的消量與總化物(以CN計)量的比為6~10,反應后廢水中余氯量應在 2 mg/L~5 mg/L,經處理后廢水中總氰化物(以CN計)含量小于 0.2 mg/L。該技術藥劑來源廣泛，投資和運行成本低，但出水含余氯及其他含氯副產物，設備腐蝕較嚴重。

2.過氧化氫氧化

適用于處理含無機氰化物或氰合金屬基配合物(鐵氰配合物除外) 的中低濃度含氰廢水。工藝控制條件為: 氧化反應 H值大于 7: 過氧化氫與總化物(以 CN計) 的摩爾比為 2:1: 氧化時間取決于化物濃度和氧化溫度(一般為 1h) 。處理后廢水中總氰化物(以 CN-計) 含量小于 0.2 mgL。該技術不產生二次污染，但過氧化氫易燃易爆的特性對運輸及儲存要求較高。

3. 臭氧氧化

適用于處理含無機氰化物或氰合金屬基配合物(鐵氰配合物除外) 的中低濃度含氰廢水。工藝控制條件為: 氧化反應 pH值為 9~11: 一級氧化反應臭與總氰化物(以 CN 計) 的摩爾比為 1:1:二級氧化反應臭氧與總氰化物(以 CN計) 的摩爾比為 2.5: 1: 氧化時間取決于總氰化物濃度和氧化溫度(一般不小于 15 min)，若采用亞銅離子作為催化劑，可縮短反應時間。處理后廢水中總氰化物(以CN計)含量小于 0.2 mg/L。該技術不產生二次污染，無需添加藥劑，但臭氧發生設備投資高，運行時電耗較高，處理能力受臭發生設備制約。

4. 電解

適用于處理含無機氰化物或氰合金屬基配合物(鐵氰配合物除外) 的含氰廢水。工藝控制條件為:進水 pH 值為 9~10:氯化投加量可按總化物(以 CN計) 度的 30~60 倍估算:陽極電流密度宜控制在 0.3 A/dm2~0.5 A/dm，電壓宜為6V~8.5V。處理后廢水中總化物(以CN計) 含量小于 0.2 mg/L。該技術占地面積小，廢水中金屬離子一般直接沉積到陰極上，產生沉淀量小。

建議

1.含氰廢水處理技術參數應滿足 GB 50136、HJ2002 要求6.1.2.1.2含氰廢水經過處理總氰化物達到控制要求后可進入電鍍混合廢水處理系統，去除重金屬離子。

2.采用堿性氯化技術處理含氰廢水時，應在加蓋密閉和集氣抽風條件下收集產生的氣體，經處理達到 GB 16297 要求后通過排氣簡排放。6.1.2.1.4采用電解、過氧化氫氧化技術處理含廢水時，處理過程中產生的氨氣應收集并處理，達到 GB 14554 要求后通過排氣簡排放。